技(ji)術文(wen)章
當前(qian)位置:首頁(ye) > 技(ji)術文(wen)章 > 分(fen)子(zi)蒸(zheng)餾(liu)傳動(dong)系統(tong)的轉(zhuan)速範(fan)圍(wei)如何影(ying)響(xiang)物(wu)料(liao)成(cheng)膜(mo)厚(hou)度(du)?
分(fen)子(zi)蒸(zheng)餾(liu)的核心(xin)是讓物(wu)料(liao)在蒸(zheng)發器(qi)表(biao)面形(xing)成(cheng)薄(bo)而(er)均勻(yun)的液膜,以(yi)最-大(da)化輕(qing)組分的蒸(zheng)發效率(分子(zi)自由程不(bu)受(shou)液膜厚(hou)度阻礙)。傳動系統(tong)(刮膜式的刮板電(dian)機、離心式的旋(xuan)轉(zhuan)電(dian)機)的轉(zhuan)速是控(kong)制液膜厚(hou)度的關鍵參(can)數(shu),其通(tong)過(guo)機(ji)械力(li)(刮板剪(jian)切(qie)力(li)或離心力(li))克(ke)服物(wu)料(liao)粘性,影(ying)響(xiang)液膜的鋪展狀態(tai)。以(yi)下從兩種(zhong)傳動(dong)形(xing)式分別(bie)說明(ming)轉(zhuan)速對成(cheng)膜(mo)厚(hou)度(du)的影(ying)響(xiang):
壹、刮膜式分子(zi)蒸(zheng)餾(liu):刮板轉(zhuan)速對成(cheng)膜(mo)厚(hou)度(du)的影(ying)響(xiang)
刮膜式通過(guo)刮板旋(xuan)轉(zhuan)直(zhi)接作(zuo)用(yong)於(yu)物(wu)料(liao),強制(zhi)將(jiang)其在蒸(zheng)發器(qi)表(biao)面(通(tong)常(chang)為(wei)圓柱形(xing)或錐形(xing))鋪(pu)展成(cheng)膜(mo)。刮板與蒸(zheng)發器(qi)表(biao)面存(cun)在微小(xiao)間(jian)隙(xi)(通常(chang)0.5-2mm),轉(zhuan)速通(tong)過(guo)改(gai)變刮板對物(wu)料(liao)的剪切(qie)力(li)和推(tui)動(dong)作(zuo)用(yong),影(ying)響(xiang)膜(mo)厚:
- 低(di)轉(zhuan)速範(fan)圍(wei)(如50-200rpm):
刮板旋(xuan)轉(zhuan)速度(du)較(jiao)慢(man)時,對物(wu)料(liao)的剪切(qie)力(li)和推(tui)動(dong)力(li)不(bu)足(zu),難以(yi)克服高(gao)粘(zhan)度物(wu)料(liao)的內聚(ju)力(li)或低粘(zhan)度(du)物(wu)料(liao)的重力(li)流(liu)動(dong)。此(ci)時(shi)液膜厚(hou)度較(jiao)厚(hou)(通(tong)常(chang)100-500μm),且均勻(yun)性差——可(ke)能出(chu)現局部堆積(ji)(刮板後(hou)方(fang)因推(tui)動(dong)不(bu)充(chong)分(fen)形成(cheng)厚(hou)區(qu))或流掛(gua)(重力(li)導(dao)致(zhi)下方(fang)膜(mo)更(geng)厚(hou))。
例(li)如:處理(li)高(gao)粘(zhan)度樹脂時,50rpm轉(zhuan)速下,液膜可(ke)能因刮板“推(tui)不(bu)動(dong)"而(er)局部(bu)厚達300μm以(yi)上,影(ying)響(xiang)輕(qing)組分蒸(zheng)發(分子(zi)需(xu)穿過(guo)更(geng)厚(hou)液膜,逸出(chu)效率(lv)低(di))。
- 中(zhong)高(gao)轉(zhuan)速範(fan)圍(wei)(如200-500rpm):
轉(zhuan)速升高(gao)後(hou),刮板的剪切(qie)力(li)和離心推(tui)動(dong)作(zuo)用(yong)增(zeng)強,能有效將(jiang)物(wu)料(liao)“拉(la)薄(bo)"並(bing)均勻(yun)鋪(pu)開(kai)。液膜厚(hou)度顯(xian)著(zhu)降(jiang)低(di)(通(tong)常(chang)30-100μm),且均勻(yun)性提(ti)升——刮板連(lian)續掃(sao)過(guo)表(biao)面,可(ke)消除(chu)局(ju)部(bu)堆積(ji),使膜厚偏(pian)差控(kong)制在10%以(yi)內。
例(li)如:處理(li)低(di)粘(zhan)度(du)精(jing)油時,300rpm轉(zhuan)速下,液膜厚(hou)度可(ke)穩(wen)定(ding)在50μm左右,輕(qing)組分分(fen)子(zi)能快(kuai)速逸出(chu),分離效率提(ti)升。
- 臨界(jie)轉(zhuan)速以(yi)上:
當(dang)轉(zhuan)速超(chao)過(guo)某(mou)壹臨界(jie)值(zhi)(如500rpm以(yi)上,因設備結構(gou)而(er)異),刮板對物(wu)料(liao)的剪切(qie)力(li)過(guo)大(da),可能導(dao)致部(bu)分物(wu)料(liao)被“甩(shuai)離"蒸(zheng)發器(qi)表(biao)面(尤(you)其低(di)粘度(du)物(wu)料(liao)),反而(er)造(zao)成(cheng)液膜局(ju)部過(guo)薄(bo)甚至(zhi)斷(duan)裂,同(tong)時(shi)增(zeng)加(jia)物(wu)料(liao)損失。
二(er)、離心式分子(zi)蒸(zheng)餾(liu):旋(xuan)轉(zhuan)電(dian)機轉(zhuan)速對成(cheng)膜(mo)厚(hou)度(du)的影(ying)響(xiang)
離心式通過(guo)蒸(zheng)發器(qi)表(biao)面高(gao)速旋(xuan)轉(zhuan)產生的離心力(li),將(jiang)物(wu)料(liao)從中(zhong)心甩(shuai)向(xiang)邊緣(yuan),自然鋪(pu)展成(cheng)膜(mo)(無(wu)刮板接觸)。轉(zhuan)速通(tong)過(guo)離心力(li)大(da)小(xiao)直(zhi)接影(ying)響(xiang)液膜的鋪展範(fan)圍(wei)和厚度(du):
- 低(di)轉(zhuan)速範(fan)圍(wei)(如50-200rpm):
離心力(li)較(jiao)小(xiao),不足(zu)以(yi)克服物(wu)料(liao)粘性,物(wu)料(liao)僅(jin)在中心(xin)區(qu)域鋪(pu)展,邊緣(yuan)可能無(wu)液膜覆蓋(gai);液膜厚(hou)度厚(hou)(通(tong)常(chang)200-800μm)且分布(bu)極(ji)不(bu)均勻(yun)——中(zhong)心(xin)因物(wu)料(liao)聚(ju)集而(er)厚,向(xiang)外逐(zhu)漸變(bian)薄,甚至(zhi)出(chu)現“空白區(qu)"。
例(li)如:處理(li)粘(zhan)度(du)1000cP的物(wu)料(liao)時,100rpm轉(zhuan)速下,液膜可(ke)能僅(jin)覆蓋(gai)蒸(zheng)發器(qi)表(biao)面的50%,中(zhong)心(xin)厚(hou)度達500μm,邊緣(yuan)幾乎(hu)無物(wu)料(liao)。
- 中(zhong)高(gao)轉(zhuan)速範(fan)圍(wei)(如200-500rpm):
離心力(li)隨(sui)轉(zhuan)速平(ping)方(fang)增(zeng)長(chang)(F=mv²/r),此(ci)時(shi)離心力(li)足(zu)以(yi)將(jiang)物(wu)料(liao)均勻(yun)甩(shuai)向(xiang)整(zheng)個(ge)蒸(zheng)發器(qi)表(biao)面(從(cong)中心(xin)到(dao)邊緣(yuan))。液膜厚(hou)度隨(sui)轉(zhuan)速升高(gao)而(er)顯(xian)著(zhu)降(jiang)低(di)(通(tong)常(chang)20-100μm),且徑向(xiang)分(fen)布均勻(yun)——因離心力(li)沿(yan)半(ban)徑方(fang)向(xiang)逐(zhu)漸增(zeng)大(da),可抵(di)消(xiao)物(wu)料(liao)粘性導致的“中心厚、邊緣(yuan)薄"問題(ti)。
例(li)如:處理(li)粘(zhan)度(du)500cP的物(wu)料(liao)時,400rpm轉(zhuan)速下,液膜可(ke)覆蓋(gai)蒸(zheng)發器(qi)表(biao)面90%以(yi)上,厚度(du)穩(wen)定(ding)在40-60μm,邊緣(yuan)與中心的膜厚偏差小(xiao)於(yu)5%。
- 高(gao)轉(zhuan)速極(ji)限(xian):
當(dang)轉(zhuan)速過(guo)高(gao)(如超(chao)過(guo)500rpm,因物(wu)料(liao)粘度(du)和設備直(zhi)徑而(er)異),離心力(li)可(ke)能超(chao)過(guo)物(wu)料(liao)與蒸(zheng)發器(qi)表(biao)面的附著力(li),導(dao)致(zhi)物(wu)料(liao)被“甩(shuai)出"設備(形成(cheng)霧(wu)狀(zhuang)飛濺),液膜局(ju)部斷(duan)裂,膜(mo)厚反而(er)不均勻(yun),同(tong)時(shi)造(zao)成(cheng)物(wu)料(liao)浪費(fei)。
三(san)、總(zong)結(jie):轉(zhuan)速與成(cheng)膜(mo)厚(hou)度(du)的核心(xin)關(guan)系
無(wu)論刮膜式還是離心式,轉(zhuan)速與液膜厚(hou)度呈(cheng)顯(xian)著(zhu)負(fu)相(xiang)關:在合理(li)轉(zhuan)速範(fan)圍(wei)內(50-500rpm),轉(zhuan)速升高(gao)→機(ji)械力(li)(剪(jian)切(qie)力(li)/離心力(li))增(zeng)強(qiang)→液膜厚(hou)度減(jian)小(xiao),且均勻(yun)性提(ti)升。
- 刮膜式因刮板的強制作(zuo)用(yong),對高(gao)粘(zhan)度物(wu)料(liao)的適應(ying)性更(geng)強(qiang),低轉(zhuan)速下的膜厚均勻(yun)性優於(yu)離心式;
- 離心式無刮板接觸,對易(yi)剪切(qie)降(jiang)解(jie)的物(wu)料(liao)更(geng)友(you)好(hao),但需(xu)更(geng)高(gao)轉(zhuan)速才(cai)能實(shi)現薄而(er)均勻(yun)的液膜(尤(you)其高(gao)粘(zhan)度物(wu)料(liao))。
實(shi)際操作(zuo)中(zhong),需(xu)結合物(wu)料(liao)粘度(du)(高(gao)粘(zhan)度需(xu)更(geng)高(gao)轉(zhuan)速)、蒸(zheng)發器(qi)面積(ji)(大(da)直(zhi)徑需(xu)更(geng)高(gao)轉(zhuan)速以(yi)覆蓋(gai)邊緣(yuan))和分離需(xu)求(qiu)(輕組分含(han)量高(gao)時(shi)需(xu)更(geng)薄(bo)液膜),選(xuan)擇(ze)最-優(you)轉(zhuan)速,避(bi)免過(guo)低(di)導致膜(mo)過(guo)厚(hou)(分離效率低(di))或過(guo)高(gao)導(dao)致物(wu)料(liao)損失。
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